在這個(gè)以科技作為核心競爭力的時(shí)代，擁有先進(jìn)的高新科技和技術(shù)，這無(wú)疑是發(fā)展的重要關(guān)鍵點(diǎn)所在。近幾十年來(lái)，我國在科技方面的進(jìn)步速度也是非常迅速，在很多科技領(lǐng)域上，都逐漸地追趕上了西方的步伐。中國科技的崛起，也是我國穩健的發(fā)展步伐。在一些技術(shù)領(lǐng)域方面的缺陷是比較明顯的，由于早期我們的起步就比較晚了，所以現在想要有所提升，也許要付出更多的努力。
近期以來(lái)，在全球范圍內的科技領(lǐng)域當中，芯片成為了熱門(mén)話(huà)題。作為很多高新產(chǎn)業(yè)必不可少的零部件，其重要性不言而喻。就目前來(lái)看我國在高端芯片的領(lǐng)域當中，和世界頂尖水平還是存在著(zhù)較大的差距的。在這方面最讓大家頭疼的其實(shí)就是芯片制造領(lǐng)域，我國雖然有很多的一些芯片研制能力提升，但是最主要的一個(gè)缺陷就在于光刻機的研制。但是如果仔細的來(lái)分析中國現在的發(fā)展的話(huà)，我們缺的不僅僅是光刻機，就算現在能夠買(mǎi)進(jìn)光刻機在其他方面的欠缺也還是比較明顯的。除開(kāi)主要的光刻機之外在光刻膠的發(fā)展上也是我們的短板，在芯片上的一些生產(chǎn)材料都是我們比較難以補上的。
光刻機是大家已經(jīng)非常清楚的，另一種東西就是光刻膠，光刻膠是在芯片生產(chǎn)過(guò)程當中，關(guān)于一些細微圖形加工的關(guān)鍵材料。它和早期的照相機沖洗膠卷其實(shí)是一樣的道理，由于是一種有機化合物，在被紫外線(xiàn)曝光之后，就會(huì )產(chǎn)生變化，而我國關(guān)于芯片的研制是非常有突破的，所以即使有了這一技術(shù)，也還沒(méi)有無(wú)法在這方面進(jìn)行補助，所以想要自主生產(chǎn)芯片，困難還是比較大。由于光刻膠的分辨率遠遠要高于普通的膠卷，所以它是需要用顯微鏡才能看清楚的，這也在制造過(guò)程當中帶來(lái)了更多的難題。
其它另一個(gè)難點(diǎn)，可能聽(tīng)說(shuō)過(guò)的人就比較少了。我國芯片發(fā)展的另一大難題，正是被稱(chēng)為芯片之母的EDA。所謂的EDA，指的就是電子設計自動(dòng)化，其是一種利用計算機輔助設計軟件，來(lái)進(jìn)行超大規模集成電路芯片的功能設計、版圖、物理設計、設計規則檢查等流程的技術(shù)。
除開(kāi)技術(shù)之外，它的生產(chǎn)還涉及了專(zhuān)利以及保護的問(wèn)題，國內的公司即使知道了它的一些配方和生產(chǎn)工藝，也是無(wú)法完成自主生生產(chǎn)的，畢竟受到了專(zhuān)利的保護，所以這也是我們在新品建設領(lǐng)域難以發(fā)展的一大原因。即使近年來(lái)我們的發(fā)展比較有優(yōu)勢，但是想要獲得一些更好的能力成就也還是比較困難的，我們在高端制造領(lǐng)域難以達到標準，想有所發(fā)展就更要克服困難。
